最適合曝光製程的紫外線波長
在紫外線波長中，USHIO的超高壓UV燈仍可有效運用3線（436nm・405nm・365nm)波長,是長效型、且具有穩定放射照度的高亮度光源。
發揮光學系最大性能的點狀光源
弧形大小極接近點狀光源，易於集中與擴散光學系統上的光，因此可以得到均勻的照度分布。
配合半導體、液晶・彩色濾光片・PDP以及印刷基板用線路成形等各種用途的燈輸出
因應迴路與類型燒付照度需求的提高、小型（100w級）～超大型（35kw級）為止、適用各尺寸的燈具。
發揮現有設備最大性能的高照度
因應現有設備Throughput提升的需求、即使僅使用高照度燈、亦可望確實提升產能。
※部分設備商產品則必須實施設備改造。
對應需求波長的燈具開發
配合顧客新設備的開發，開發出最適合的燈具。詳情請洽詢。
主要用途
- 半導體迴路形成用光源
- 液晶迴路形成用光源
- 彩色濾光片迴路形成用光源
- 電漿顯示器迴路形成用光源
- 印刷電路板迴路形成用光源
- MEMS迴路形成用光源
- 其他新的曝光用途等
